多人的科研团队，经过两年不懈努力，终于造出了100％自主研发的商业化光刻机设备，适用于7纳米和5纳米工艺节点的芯片制造。”
何婷波语气平淡道。
说罢，大手一掀，丝滑的红绸应声跌落！
露出一个通体雪白的长方体工作台，对光刻机结构比较了解的观众，快速辨认出来，这是一组曝光台。
它又叫测量台，是承载硅晶圆的工作台，用来支撑和定位硅晶片，在光刻过程中，曝光台将硅片位置定位到投影光学系统下方，以便接受光刻胶的投影。
大屏幕上的画面随之转动，利用数字动画技术，展示一台更全面立体的烛龙1080uv光刻机。
“由于场地限制，我们只拉来了一组曝光台，但它的结构同样复杂精密，由多个部件组成，譬如：
真空吸盘，在曝光之前，通过负压吸附硅片并使之牢固地固定在曝光台上，防止硅片在曝光过程中移动或摆动。
气氛控制系统，用来控制曝光台工作区的环境，确保光刻胶在最佳条件下进行曝光，包括过滤器和温度控制器等。
测量系统，用于检测硅片的位置和旋转，以及曝光后的质量和厚度等参数。通常由传感器和计算机接口组成，以提供实时反馈并调整曝光台的位置和参数……”
何婷波既是管理人员，又是专业的技术人员出身，谈到烛龙光刻机，自然是高谈阔论，满是自信之色。
一台光刻机的内部组件除了曝光台外，还有激光器、光束矫正器、能量控制器、掩膜台和物镜等十几种大型零配件，如果让她一一解读，这场发布会估计要开个两天两夜。
因此，何婷波在介绍完曝光台的结构后，凝思片刻道：
“烛龙1080uv光刻机采用13.5纳米波长的euv光源，相比传统的深紫外光刻技术，具备更高的光学分辨率和更低的纹影效应，这也是它能支持7纳米和5纳米芯片生产的基础。
首先，euv
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