芯片就算不错了,不敢奢望太多。
对比国产光刻机70%的良品率,这个数值勉强还能接受。
“估计可以做到90%!”
何婷波回道。
英特、波通这些芯片巨头,基本也是使用的nxt 1950i duv光刻机,良品率稳定在90%。
“嗯,我知道了。”
陈河宇点点头回道,在euv光刻机还未诞生的年代,90%的良品率实属不易。
要等到2018年,euv光刻机得到广泛应用,才能应对日益精密的半导体制造需求,极大提升良品率问题。
这是因为euv光刻机采用的是极紫外光源,而duv光刻机使用的是深紫外光源。
euv光源的波长约为13.5纳米,比duv光源的波长要短得多,可以实现更加精细的分辨率和更小的工艺尺寸,较短的波长能够产生更细腻的图像。
但并不是没有缺点,制造和维护成本都较高,光源的稳定性、镜片制造依旧是个难题,没有三五年,想要应用到半导体工业中,简直痴心妄想。
一行人来到制造部门,换上无尘服、静电消除鞋、帽子和头套,以及防护面罩,以应对车间中可能存在的一些化学品喷洒、粉尘飞扬等风险。
众人站在一旁,随着陈河宇示意。
一名操作员出列,立马取出一块8英寸晶圆,经过仔细观察,确保表面没有任何杂质和污染物,又拿出带有电路图案的透明底片,也就是光掩膜的模板,小心翼翼放置在光刻机上。
“继续吧。”
陈河宇对这些操作并不陌生,系统在录入fan-out封装技术后,脑子里便多出几十年芯片封测经验,可以看出操作员的动作非常娴熟。
处理到这里,操作员又使用旋涂机将光刻胶涂在晶圆上,因为光刻胶是感光性的,可以通过紫外光曝光后改变化学性质,形成复杂的电路图案。
然后将晶圆浸泡在显影
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